En su carrera por lograr fabricar chips avanzados, China ha intentado copiar a ASML. Le está saliendo mal
China sigue avanzando de forma extraordinaria a la hora de fabricar sus propios chips avanzados, pero sigue teniendo un gran problema: no cuenta de momento con equipos de fotolitografía de ultravioleta extremo (UVE) propios. Por supuesto está trabajando en el desarrollo de esta tecnología, y una de las estrategias que está siguiendo para lograr superar este reto es singular… y casi obvia.
Ingeniería inversa. En su libro de 2010 ‘Copycats’ el profesor Oded Shenkar argumentó que a menudo ocurre que los imitadores acaban triunfando sobre los innovadores. Aunque en Occidente la visión sea la contraria, en China existe una visión positiva de la copia y los procesos de ingeniería inversa son una importante herramienta para conseguir copiar tecnologías. Eso es lo que supuestamente ha intentado el país, según indican en The National Interest (TNI).
De producir para el mundo a producir para ellos. Ya repasamos las conclusiones del libro ‘Apple in China’, que es un ejemplo perfecto de cómo al delegar la producción en China, las empresas occidentales han acabado contribuyendo al desarrollo del país y a su especialización. La guerra comercial ha hecho que China lógicamente busque ahora su independencia ante los vetos que está sufriendo para desarrollar soluciones tecnológicas propias.
De UVP a UVE. Ya ha avances importantes en este ámbito, y hace poco contábamos como un fabricante chino ya cuenta con un prototipo de una máquina UVP (ultravioleta profundo) para la creación de chips relativamente avanzados. Si hay un reto crucial para poder crear esos chips aún más avanzados, ese es el de poder disponer de máquinas de fotolitografía UVE, pero tener ese primer problema resuelto es importante para dar el salto a la tecnología UVE. Y aquí es donde se ha descubierto algo singular.
A ver cómo funciona por dentro. Según revelan en TNI, se ha desvelado que China ha sido «pillada» tratando de aplicar ingeniería inversa sobre una máquina de fotolitografía UVP de ASML. No tanto para producir en masa estas máquinas, indican las fuentes, sino porque los técnicos chinos están tratando de aprender cómo funcionan para poder replicarlas y a partir de ellas, desarrollar máquinas y chips más avanzados.
No está rota porque sí. Sin embargo parece que al desensamblar uno de estos sistemas ASML, los técnicos chinos lo dañaron. Eso hizo que avisaran a los técnicos oficiales de ASML para que solucionaran el problema. Cuando éstos llegaron, descubrieron que la máquina no se había roto sin más, sino que los chinos habían intentado desmontarla para luego volver a montarla.
El monopolio de facto de ASML. Las máquinas de fotolitografía UVE de ASML se consideran las más complejas y avanzadas del mundo, y lo cierto es que a día de hoy la compañía holandesa tiene un monopolio de facto con dichos sistemas. Son estas máquinas las que permiten acceder a la producción de los chips más avanzados —como los utilizados en las modernas aceleradoras de IA de NVIDIA—, y se han convertido en el verdadero cuello de botella de la industria de los semiconductores.
Más allá de la máquina dañada. El incidente revela dos puntos cruciales. El primero, la extrema urgencia de Beijing por poder controlar de principio a fin la producción de chips. El segundo, que el desafío de crear estas máquinas va más allá de la mera copia de hardware: los sistemas de litografía requieren tener un dominio técnico extraordinario de componentes como la óptica de precisión o la ciencia de los materiales.
¿Demasiados obstáculos? Puede que China cuente con ingenieros brillantes, pero las máquinas de ASML cuentan además con una cadena de suministro altamente especializada que sin duda dificulta que una máquina así se puede construir íntegramente en China. Un buen ejemplo es Zeiss SMT, la empresa alemana que suministra los sistemas ópticos y los espejos de precisión extrema necesarios para los sistemas de fotolitografía UVE y UVP avanzado.
Un largo camino por recorrer. Este supuesto problema revela las dificultades por las que está pasando China para poder contar con máquinas con tecnologías fotolitográficas avanzadas. En Nikkei Asia ya hablaban en julio de lo complejo que es lograr tener una «ASML china». En dicho análisis citaban a Didier Scemama, director de investigación hardware en BofA Global Research, que estimaba que a China aún le quedan años para poder lograr algo así. «Puede que tarden 5, 10 o 15 años, no lo sabemos. ¿Será competitivo con lo que hace ASML? Es altamente improbable, pero será suficientemente bueno para China».
Imagen | Zeiss
